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事业领域

Wafer

半导体wafer干式清洗机

产品特征

Wafer (Glass) Size & Thickness 可同时12 Inch(Ø300mm) Wafer (0.7T), Glass (0.5T) Wafer, Glass 供应Wafer & Glass
洗净力 96~99% (标准:3㎛ Spacer) ※ 以CTS标准粒子(Standard Particle)为标准
Nozzle 标准 Gap 1.5~2.0 mm
Moving type Stage moving
电源 AC 208V 3P 60Hz
供应Wafer & Glass By Robot