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반도체 wafer 건식세정기
규격 및 사양
Wafer (Glass) Size & Thickness
12 Inch(Ø300mm) Wafer (0.7T), Glass (0.5T) Wafer, Glass 동시 가능
세정력
96~99% (3㎛ Spacer 기준) ※ CTS 스탠다드 파티클 기준
Nozzle 표준 Gap
1.5~2.0 mm
Moving type
Stage moving
전원
AC 208V 3P 60Hz
Wafer & Glass 공급
By Robot